簡要描述：*CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機 高純氧化鋁粉研磨分散機,氧化鋁粉高速分散機,,高純氧化鋁漿料分散機,金屬氧化物研磨分散機,化工研磨分散機
產(chǎn)品型號：
所屬分類：高速剪切分散機
更新時間：2025-11-19
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【產(chǎn)品介紹】
一、產(chǎn)品名稱：高純氧化鋁粉研磨分散機,氧化鋁粉高速分散機,高純氧化鋁漿料分散機,金屬氧化物研磨分散機,化工研磨分散機
二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應(yīng)用
氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點。高純氧化鋁氧粉，又稱三氧化二鋁，分子量102，是一種白色無定形粉狀物，俗稱礬土。
高純氧化鋁的應(yīng)用：
一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于先進陶瓷，4N主要應(yīng)用于熒光粉，5N應(yīng)用于藍(lán)寶石晶體、鋰電池隔膜、高級陶瓷等。
：應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
中端：應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈，藍(lán)寶石襯底，對純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
低端：集成電路基板、消費電子，紫外固化涂料等方面的應(yīng)用，需要使用4N級別左右的高純超細(xì)氧化鋁，整體要求相對較低。
三、高純氧化鋁粉的應(yīng)用工藝
主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中，然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無法滿足分散效果的要求，傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低，一般為3000rpm。而采用CIK管線式研磨分散機，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計，將膠體磨和分散機一體化，先研磨后分散，分散粒徑更小，粒徑分布更均勻。
四、CIK化工研磨分散機的優(yōu)勢
1、上海CIK研磨式分散機可以很好的解決這一問題，“膠體磨+分散機”的*結(jié)構(gòu)，一級研磨模塊可以將團聚體研磨打開，第二級分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。
2、傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm，難以分散。而CIK研磨分散機轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，剪切速率高，可以充分的將石墨烯分散到涂料當(dāng)中。
3、CIK研磨分散機采用管線式分體式結(jié)構(gòu)，物料從進口進入設(shè)備工作腔中，進行處理，然后再從出口打出，物料順利得的剪切細(xì)化分散，產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實現(xiàn)在線式生產(chǎn)，滿足大工業(yè)化生要求。
五、NKD2000系列高純氧化鋁粉研磨分散機選型表
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
NKD2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
NKD2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
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